半導體超純水說明主要用于生產超純水過程中去除TOC有機物，降低TOC出水指標，使出水滿足美國ASTM超純水水質標準及電子工業部電子級水水質標準。

半導體超純水說明

n 產品介紹：

EX-UPW-TOC產品系列是一款適用于純水（UPW）制備中對總有機碳（TOC）進行降解的先進可靠系統。通過更高185nm穿透率、實時在線的紫外線強度監測、本地/遠程的智能控制，實現高效、安全可控的總有機碳（TOC）降解。該設備在超純水制備工藝中，可使純水TOC降至1ppb以下。

n 主要優勢：

2 安全可控

真空級平行光束儀進行理論安全劑量指導設計，足夠紫外線劑量實時輸出可調，系統智能自控。

2 更高去除效率

更高純石英玻璃，系統185nm紫外線強度輸出較傳統產品提高50%以上。

2 CFD流體模擬

進行細節模擬設計，提高處理效率

2 性能穩定、操作簡便

本地與遠程控制，配備PLC、觸摸屏，紫外強度實時顯示及預警

2 先進的加工工藝

采用先進設備、工藝加工，反應器內外電解拋光，Ra<0.2

2 多形式選擇

滿足現場多樣化安裝形式，產品可選擇成套撬裝，占地面積小

半導體超純水產品規格：

半導體超純水說明應用領域：

1. 半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路板

2. 電解電容器生產鋁箔及工作件的清洗

3. 電子管生產、電子管陰極涂敷碳酸鹽配液

4. 黑白顯像管熒光屏的生產、波殼清洗、沉淀、洗膜、管頸清洗

5. 液晶顯示器的生產、屏面清洗

6. 集成電路生產中高純水清洗硅片

7. LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏的生產